Réalisation d’implanteurs ioniques R&D

Les implanteurs que nous concevons pour la Recherche et Développement sont, comme toutes les machines spéciales proposées par l’entreprise, fabriqués à façon pour permettre aux chercheurs d’obtenir un équipement adapté à leurs recherches et à leurs objectifs.

La réalisation d’implanteurs ioniques R&D pour le dopage de semi-conducteurs ou pour toute autre utilisation nécessite un savoir-faire spécifique, que nous maîtrisons parfaitement et que nous avons eu l’occasion de mettre en œuvre durant les 20 dernières années. Nous proposons des implanteurs ioniques sur mesure. 

R&D Implanteur

Implanteur R&D modulable en énergie, AMU, type de source, chambre, etc...

  • Energie : 1-300 KV
  • AMU : Jusqu’à 250, résolution > 1000
  • Courant faisceau > 10mA (selon les espèces)
  • Source : tout type de gaz, liquide, solide (de 50°C à 1100°C), sputtering
  • Balayage et focalisation électrostatique, magnétique ou mécanique
  • Porte-substrat chauffant ou refroidit, orientable
  • Electrode mécanisé jusqu’à 3 axes
  • Supervision et contrôle sur PC (LabVIEW)

Nous maîtrisons également différents types de sources d’ions que nous utilisons en fonction des projets et des applications :

  • Source type Freeman
  • Source type Bernas
  • Source type ELS
  • Source sputtering
  • Source type Penning